超导纳米线

定位纳米级不均匀性

以纳米级分辨率揭示超导纳米线中不均匀性的空间分布，为超导器件性能优化提供直接依据。

刘震 · 赵清源 · Hao, Hao · 黄辉 · Jie, Deng · 杨帆 · Sai-Ying, Ru · Nai-Tao, Liu · Wang, Shun · Jia-Qing, Sun · 张蜡宝 · 陈健 · Kang, Lin · Pei-Heng, Wu

Nano Letters 2025

参数信息

IV曲线数量
50
暗计数源数量
3
最小间距
0.7 μm
纳米线长度
12 μm

技术优势

纳米级定位不均匀性

热点扫描显微镜能够以纳米级分辨率定位不均匀性并揭示其空间分布，此前这一信息完全缺失。

明确暗计数来源

在50条不同的IV曲线中识别出3个暗计数源，并定量提取了各自的贡献，最小间距0.7 μm。

应用场景