Cu-F共掺杂Co₃O₄

高效析氧

铜氟共掺杂与氧空位协同促进表面重构，暴露更多活性位点。

李晓维 · Jianmin, Gou · 薄丽丽 · Chengzhuo, Li · Ma, Jiangping · 关晓琳 · Tong, Jinghui

Journal of Colloid and Interface Science 2025

具体参数

过电位

290 mV

技术优势

稳定性超过100 h