S、Cr共掺杂FeOOH纳米阵列

大电流低过电位

通过S和Cr共掺杂调控电子结构,优化OER中间体吸附能,在100 mA cm⁻²下过电位仅235 mV,性能优于商用RuO₂。

穆建帅 · Aizhu, Peng · Xinran, Wang · Jin, Wang · Zengjiao, Hong · Danna, Guo · 类淑来 · 王家军 · 杨恩翠

ACS Applied Nano Materials 2024

具体参数

过电位
{'zh': '235', 'en': '235'} mV
稳定性(过电位增加)
{'zh': '4', 'en': '4'} mV

技术优势

大电流下过电位低

S、Cr共掺杂优化了对OER中间体的吸附能,促进决速步*O→*OOH,从而在100 mA cm⁻²下过电位仅235 mV。

超稳

在100 mA cm⁻²下连续运行70小时,过电位仅增加4 mV,衰减几乎可以忽略。

胜过商用RuO₂

其OER过电位明显低于商用RuO₂,证明掺杂策略可取代贵金属催化剂。

活性位更多

S、Cr共掺杂调控形成超薄纳米片阵列,提供丰富活性位点并促进传质。

应用场景