接触电阻骤降
在CsPbBr₃单晶薄膜内部原位生成Ag₂O团簇作为电子受主,局部p型掺杂将金属接触电阻降至欧姆水平,无需外源掺杂剂。
Wang, Laiyuan · Qian, Qi · Wang, Peiqi · Zhang, Ao · Wan, Zhong · Dehui, Zhang · Shuanghao, Zheng · Zhang Ao · Zhou, Jingxuan · Wang, Yiliu · Huang, Yu D. · Duan, Xiangfeng
Nature Materials 2026
Ag₂O团簇作为界面电子受主引发局部p型掺杂,使接触电阻降至26–70 Ω·cm,相比未掺杂钙钛矿降低一个数量级以上。
通过银扩散和原位氧化形成Ag₂O,避免使用外部掺杂剂,保持钙钛矿本征性质。
80–180 °C退火即可完成掺杂,与柔性基底和温度敏感器件兼容。
肖特基势垒显著减薄,金属-半导体界面接近欧姆接触,有利于高效载流子注入。