分子印迹催化剂

靶向降解新兴污染物

通过分子印迹空腔特异性识别并限域活性氧，克服传统AOPs对痕量新兴污染物降解效率低的问题。

Zhang, Junbo · Xu, Jiang · 代朝猛 · 李继香 · 胡佳俊 · 高旻天 · You, Xueji · Hongcheng, Zhang · Shunyang, Li · Peng, Qiu · Zhu, Zhu · 王希华 · Zhi, Li · Zhe, Zhou · Yalei, Zhang · Ken-Lin, Chang · Leong, Kah Hon · Yeap, Swee Pin

Chemical Engineering Journal 2026

参数信息

SMX去除率相对卡马西平的倍数

13.1 ×

SMX去除率相对氧氟沙星的倍数

3.81 ×

适用pH范围

3–9

技术优势

靶向去除能力大幅提升

SMX的去除率是竞争污染物卡马西平的13.1倍、氧氟沙星的3.81倍，证明了对目标污染物的优先降解。

抗大分子干扰

分子印迹空腔具有尺寸排阻效应，可有效抵抗大分子腐殖酸的干扰，在复杂水体中保持靶向去除性能。

宽pH范围适用

在pH 3–9范围内均能高效去除SMX，适应不同酸碱度的实际水体。

可重复使用且环境安全

催化剂具有良好的可重复使用性，且降解过程环境安全性好，降低了实际应用成本与二次污染风险。

应用场景

• 高级氧化水处理：用于含痕量新兴污染物的水体深度处理，优先去除目标污染物。
• 环境污染物传感：利用分子印迹空腔的选择性识别，可预富集目标分子以提升传感灵敏度。
• 分子印迹聚合物：基于分子印迹聚合物制备催化剂，提供高选择性的识别位点和纳米限域空间。