钇改性高熵难熔金属硅化物涂层

2100°C近零烧蚀

通过原位形成高粘度Si-Y-O氧化层和高熔点Y(Nb0.5Ta0.5)O4骨架结构,涂层在2100°C下保持近零损伤,超越现有高性能硅化物涂层。

Kuang, Juan · 王倩倩 · 贾喆 · Yi, Guoming · Sun, Bo · Yang, Yiyuan · 孙李刚 · 张平 · He, Pengfei · Yue, Xing · 梁秀兵 · 陆洋 · 沈宝龙

Materials Today 2024

参数信息

耐烧蚀温度
2100 °C

技术优势

近零烧蚀损伤

涂层在2100°C持续180秒后保持近零损伤,超越现有高性能硅化物涂层,可直接用于极端热环境。

原位形成高粘度Si-Y-O层

烧蚀中原位生成高粘度Si-Y-O氧化层,热稳定性提高,有效阻隔氧向内扩散。

高熔点氧化物骨架

高熔点Y(Nb0.5Ta0.5)O4氧化物作为骨架结构,增强涂层在超高温下的结构完整性。

抑制氧扩散

Y-HERMS促进SiO2生成,阻碍氧向金属硅化物层扩散,协同提升耐烧蚀性能。

应用场景