自适应多曝光结构光测量

高反光表面完整重建

借助互补格雷码曝光序列与融合算法,在高反光工件上同时避免局部过曝与欠曝,比现有HDR方法获得更完整准确的三维轮廓。

Cheng, Tianle · Qin, Long · Yulong, Li · Jialong, Hou · 肖昌炎

IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement 2024

技术优势

高反光也能测

利用自适应多曝光成像与融合,在反射率剧烈变化的表面生成可用于解码的条纹,避免局部过曝与欠曝。

更完整准确

在真实工件上的对比实验表明,所提方法在轮廓精度和完整度上优于现有HDR方法。

自动定曝光

曝光序列通过先验差分阈值和停止准则迭代计算,无需人工试凑曝光参数。

融合更鲁棒

融合算法由正负条纹的差异引导,能有效生成高动态范围响应图像供解码。

应用场景