UVW平台枢轴点校正

重复性误差降近半

用运动学模型和最小二乘法精确求解电机枢轴点坐标，替代手动校准，在不损失垂直方向精度的前提下显著提升水平对准重复性。

Yunchao, Zhi · 刘群锋 · Mingming, Zhang · Jiarui, Zhang

Computational and Applied Mathematics 2025

参数信息

水平对准重复性误差降低

43 %

水平对准重复性误差降低

49 %

技术优势

误差降近半

水平对准重复性误差降低43%至49%，无需修改硬件即可提升精度。

垂直不牺牲

在降低水平误差的同时，垂直方向误差保持在相近水平，未引入额外偏差。

应用场景

• 锡膏印刷对准：提升PCB锡膏印刷对准精度，保障电路板导电性和稳定性。
• 精密运动平台：为精密运动平台提供更高精度的枢轴点标定，实现更精准的运动控制。
• 半导体封装对准：改善半导体封装中对准系统的精度，提高封装良率。
• 微纳制造对准：在微纳制造中实现更精确的对准，支持高精度器件加工。