弱磁化增强力流变抛光液

高效高表面质量

基于磁剪切增稠液的新型抛光介质，可同时降低SiC模具表面粗糙度与亚表面损伤，抛光效率和稳定性优于传统力流变抛光。

Zhou, Dongdong · 黄向明 · Ming, Yang · Li, Xiyang

International Journal of Advanced Manufacturing Technology 2023

参数信息

最优主轴转速

720 rpm

最优抛光间隙

0.5 mm

最优磨料粒径

3 μm

技术优势

表面粗糙度和亚表面损伤同步降低

优化工艺下，表面粗糙度和亚表面损伤深度都显著下降，表面/亚表面质量得到显著改善。

高效材料去除

主轴转速提高时材料去除率增大，使抛光过程更高效，同时通过参数优化平衡了表面质量。

工艺参数可预测

通过正交实验和多目标矩阵评价，确定了各参数的影响权重，可针对不同需求优化抛光方案。

应用场景

• 精密模具抛光：用于小口径非球面碳化硅模具的高精度抛光，满足光学模具对表面和亚表面质量的严苛要求。
• 高精度表面加工：适用于需要同时控制表面粗糙度和亚表面损伤的高精度表面加工场景。
• 碳化硅部件制造：用于碳化硅部件的最终抛光工序，在保证表面质量的同时提高加工效率。