Ga-TBAPy MOF纳米片

ECL强度提升9.6倍

利用MOF自身的Ga³⁺作为高效共反应加速器,在超薄多孔框架内协同增强电化学发光,无需额外添加共反应加速剂。

Qiu-Yi, Peng · Qiu-Yue, Li · Yang, Yang · Jun-Qi, Song · Bing-Ling, Yu · 梁文斌 · Yan, Li · 袁若 · 肖冬荣

Chemical Engineering Journal 2025

参数信息

ECL强度比(Ga-TBAPy / Al-TBAPy)
9.6 ×
microRNA-155 检测限
5.75 aM
microRNA-155 检测范围
10 aM–1 nM
ECL强度比(Ga-TBAPy / In-TBAPy)
3.6 ×

技术优势

无需外部添加剂

MOF自身的Ga³⁺直接作为高效共反应加速剂,免去了额外引入共反应加速剂或修饰步骤,简化了传感器构建流程。

检测限低至5.75 aM

构建的“off-on”型ECL传感器对microRNA-155的检测限低至5.75 aM,检测范围宽达10 aM至1 nM。

ECL强度提升9.6倍

在相同条件下,Ga-TBAPy MON的ECL强度分别是Al-TBAPy MON和In-TBAPy MON的9.6倍和3.6倍。

应用场景