无添加剂超高强度
这种无添加剂电沉积技术直接制备超高强度纳米结构镍，同时实现高强度与良好延展性，沉积速率显著超越现有先进方法。
明平美 · 李欣潮 · 王昆 · Wenjie, Liu · Liu, Huan · 牛屾
Micromachines 2026
超细晶粒尺寸21.86 nm带来756 MPa抗拉强度的同时，延伸率仍达9.33%，实现了高强度与良好塑性的结合。
沉积速率达1.72 μm/min，显著优于先进的超细阳极扫描电沉积技术，可大幅缩短制备时间。
该技术可直接在基底上制备出成品镀层，无需后续热处理或机械加工即可获得镜面光洁度。