黑二氧化钛光热催化剂

宽光谱高去除速率

缺陷工程化的黑色纳米二氧化钛在宽光谱下同时产生活性氧和局域光热效应，用于光热化学机械抛光，实现快速原子级表面平整。

Shichang, Wang · Xing, Chuanwang · Wang, Shenghua · Chengcheng, Zhang · Hailong, Feng · Yuhang, Dong · Yuxuan, Zhou · 原帅 · Zuozuo, Wu · 洪子健 · Wang, Wantang · Ziyi, Wang · Sun, Wei · 杨德仁

Journal of Materials Chemistry A 2026

技术优势

不再需要紫外光

缺陷工程化黑二氧化钛在宽带光下均可有效吸收，摆脱了传统光辅助抛光对紫外光源的限制。

去除率更高

光热效应与光生氧化协同作用，相比传统PCMP在宽带光下材料去除率更高。

原子级表面平整

工艺可优化至表面粗糙度达原子级，满足高精度表面要求。

应用场景

• 光学表面精加工：用于光学元件抛光，获得原子级光滑表面。
• 电子衬底抛光：用于电子衬底表面处理，提升表面质量。