锰掺杂硫化钴催化剂

OER过电位仅227 mV

微波法合成的锰掺杂硫化钴,通过表面缺陷工程显著加速氧析出反应动力学,突破了无贵金属催化剂的性能瓶颈。

Ur Rehman, Sajid · Tariq, Zeeshan · Ali S. · Tahir, Muhammad Rizwan · 李传波 · 张晓明 · 李峻柏

Journal of Colloid and Interface Science 2024

技术优势

合成快速可扩展

采用微波法合成,速度快且可扩展,克服了高质量过渡金属硫化物纳米结构的合成难题。

表面缺陷工程

暴露的表面原子产生缺陷,促进电荷和质量传递,使表面依赖的电化学反应更高效。

应用场景