多晶金刚石基片

原子级平坦抛光面

多晶金刚石通过等离子体改性结合化学机械抛光，实现了传统加工难以达到的原子级平坦表面。

袁菘

CIRP Annals - Manufacturing Technology 2025

参数信息

Sa

0.366 nm

等离子体改性形成

约 30 nm

技术优势

氧化层由碳-氧混合层和富氧层组成