高比表面UiO-66

检测去除两用

一锅法合成的锆基MOF兼具四环素荧光检测与高效吸附,且可再生复用。

Zhang, Yao · Li, Guizhen · Xu, Wang · Lu, Mingrong · Li, Jiaxiong · 方秀英 · Wenrong, Yang · 杨敏 · 王红斌

Separation and Purification Technology 2025

参数信息

四环素去除率
85.14 %
四环素检测限
0.003 mg/L
线性检测范围
0.01–30 mg/L
再生次数
2

技术优势

去除率高

在宽pH范围内对四环素的去除率达到85.14%(初始浓度20 mg/L),得益于其丰富的表面官能团和高比表面积。

检测灵敏度高

荧光强度随四环素浓度线性下降,最低可检测到0.003 mg/L,远低于常见环境浓度。

可循环再生

吸附四环素后的材料至少可重复使用2次,且去除效率无明显损失。

应用场景