二羧酸抛光液

MRR降75%

通过减少静电吸引来削弱铜化学机械抛光中的磨损效应，为铜CMP提供新的材料去除机制。

江亮 · Wenhui, Li · Zhong, Xia · Rui, Lei · Chen, Yushan · 理性 · 钱林茂

Wear 2025

具体参数

加入

1 mM

技术优势

酸性pH和低H2O2浓度下，加入二羧酸后铜的MRR意外下降