抛光效率与表面质量兼得
相比单晶金刚石,团聚结构提供更多微切削刃,在强制流变抛光中实现选择性去除,表面粗糙度降至纳米级。
Meng-Qing, Liu · 王金虎 · Wen, Liu · Hejie, Wu · 袁巨龙 · Lyu, Binghai · 彭光健 · 张键
Ceramics International 2024
25 μm团聚金刚石磨料把Sa从146.1 nm降到4.6 nm,峰谷差从1329 nm降到69.3 nm,满足光学级表面要求。
团聚结构类似多晶,切削刃比单晶金刚石多,实现更优的选择性材料去除。
团聚金刚石抛光后的亚表面晶格畸变极小,有利于保持光学性能。