亚微米OLED阵列

500 nm像素低成本

采用AFM机械犁削法，在优化光刻条件下制备出高可重复性和均匀性的PMMA抗蚀剂图案，进而实现亚微米像素的OLED原型器件

Chen, Jianmei · Li, Dong · Sun Y. · 王燕东 · Zeng, Zhoufang · 江林 · 迟力峰

Applied Surface Science 2023

具体参数

最小像素尺寸

{'zh': '500', 'en': '500'} nm

技术优势

缺陷少

通过优化光刻条件，避免了传统犁削过程中的碎屑污染和薄膜剥离，获得高重复性结构。

均匀性好

制备的PMMA腔体阵列具有优异均匀性，确保像素性能一致。

成本低

AFM机械犁削成本相对较低，工作条件灵活，适合低成本制造。

应用场景

• 超高分辨率显示：500 nm像素OLED阵列可直接用于超高分辨率显示器，提升像素密度。
• 微显示：亚微米OLED阵列可用于微型显示器，实现紧凑、高亮度显示。
• 纳米光刻：AFM犁削提供了一种高分辨、低成本的光刻方法，替代传统光刻步骤。
• 微纳光源：亚微米OLED阵列可集成到微纳光源中，用于芯片实验室等场景。