高增益CMOS类
F等离子体处理赋予SnO沟道平衡的p/n型传导和优异的偏压稳定性,使同类逆变器增益极高。
Zening, Gao · Peng, Dai · Ning, Wang · Yiwen, Yao · Jialong, Song · Jinlong, Xiang · 王一鸣 · 张嘉炜 · 李玉香 · 辛倩 · 宋爱民
IEEE Transactions on Electron Devices 2025
F等离子体处理的SnO TFT构建的CMOS类逆变器在8 V低电压下电压增益达289,远超同类器件。
F等离子体处理使开关电流比和亚阈值摆幅显著增强,器件性能更优。
F等离子体处理改善了负偏压应力稳定性,器件在长时间工作下更可靠。