二维卤化铋铯单晶

晶格失配下高取向集成

通过低温平面自适应外延,在蓝宝石衬底上实现了系列晶格常数各异的高取向二维单晶,为集成光电器件拓宽光谱响应。

Liu, Zhenyu · 房永征 · Zheng, Xiaohong · 侯京山 · 戴宁 · Shan, Yufeng · 刘玉峰

Advanced Materials 2024

参数信息

探测率
3.7 × 10¹² Jones
晶格常数范围
8.41 to 7.71 Å
外延温度
160 °C
衬底晶格常数
4.76 Å
晶体旋转角
30 °

技术优势

低温空气环境生长

外延在160 °C、空气环境中完成,无需高真空或惰性气氛,工艺简单、成本低。

界面应变自适应

通过晶体取向旋转30°,界面应力由压缩转变为拉伸,从而容忍大晶格失配,实现系列材料外延。

高探测率

Cs3Bi2I9光电探测器探测率达3.7 × 10¹² Jones,源于单晶高质量。

应用场景