三(三甲基硅基)磷酸酯添加剂

高压不衰减

在负极原位形成钝化层并清除残余水分,同时解决双电层电容器高压下的副反应,使器件在3.5 V浮充下稳定运行。

Wang, Zhefan · 赵彬 · Bing, Xiao · Guangwen, Cheng · Song, Yang · Zhongxu, Guo · Yang, Li · 陈成猛 · Cheng, Jian · 韩晓刚

Electrochimica Acta 2025

具体参数

电容保持率
{'zh': '80', 'en': '80'} %
性能提升倍数
{'zh': '2.78', 'en': '2.78'}

技术优势

高压下不衰减

TMSP在负极优先还原形成钝化层,抑制高压下的副反应,使电容器在3.5 V浮充下稳定运行。

清除残余水分

TMSP与水反应,有效抑制水分引起的副反应,保护电解液。

应用场景