F-Cs共沉积层

功函数低至1.23 eV

在等离子体网格上共沉积铯与氟，将功函数降至1.23 eV，优于纯铯沉积，可提升负离子源表面电离效率。

Li, Heng · 张辛 · 许宇鸿 · 雷光玖 · Tsumori, Katsuyoshi · Isobe, M. · Akihiro, Shimizu · Cui, Zilin · Zhu, Yiqin · Hu, Jun · Yuxiang, Ni · 耿少飞 · Liu, Haifeng · Wang, Xiangqu · 黄洁 · Hai, Liu · Cheng, Jun · Tang, Changjian · Team, Cfqs

Nuclear Materials and Energy 2023

具体参数

上的最低功函数

{'zh': '1.23', 'en': ''} eV

上的最低功函数

{'zh': '1.31', 'en': ''} eV

上的最低功函数

{'zh': '1.66', 'en': ''} eV

density change slope

{'zh': '', 'en': '167.03'} VÅ